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真空鍍膜的方法很多：
1真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室，抽空后將膜料加熱到高溫，使蒸氣達(dá)到約13.3pa而使蒸氣分子飛到基體表面，凝結(jié)而成薄膜。
2陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對(duì)面，把惰性氣體如氬通入已抽空的室內(nèi)，保持壓強(qiáng)約1.33～13.3pa，然后將陰極接上2000v的直流電源，便激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜。
3化學(xué)氣相沉積：通過熱分解所選定的金屬化合物或有機(jī)化合物，獲得沉積薄膜的過程。
4離子鍍：實(shí)質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機(jī)結(jié)合，兼有兩者的工藝特點(diǎn)。
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