伯東企業上海有限公司為您提供離子蝕刻機10ibe用于提升碳化硅微光學元件的品質。某光學元件制造商為了優化碳化硅微光學元件, 降低碳化硅微光學元件表面粗糙度, 采用 hakuto 離子蝕刻機 10ibe對其進行優化.
"> 燈絲
* 可選: 可調角度的支架
hakuto 離子刻蝕機 10ibe 配的是 pfeiffer 渦輪分子泵 hipace 700, 可抽的真空度 < 1 · 10-7 hpa, ---的保持刻蝕室的真空度.
其產品優勢:
1.結構緊湊但功能---的渦輪泵，用于 n2 時的---抽速可達 685 l/s
2.真空性能，---功耗
3.集成的帶 profibus 的驅動電子裝置 tc 400
4.可在任何方向安裝
5.帶有集成型水冷系統以------氣體流量
6.通過 m12 插接頭的 profibus 連接
7.廣泛的配件擴展使用范圍
運行結果:
1. 經過 hakuto 離子蝕刻機 10ibe 對碳化硅微納結構進行刻蝕, 以調控結構的線寬和---, 使結構表面粗糙度由約106nm降低到11.8nm.
2. 碳化硅菲涅爾波帶片展現出---的---和成像效果.
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