伯東企業(yè)上海有限公司為您提供kri 離子源用于離子束濺射鍍制 ge 納米薄膜的研究。在硅襯底上生長(zhǎng) ge ---點(diǎn)唄認(rèn)為是可能實(shí)現(xiàn) si 基發(fā)光的重要途徑, 對(duì) si 基光電子、微電子或單電子器件有重要影響.
某研究所采用伯東 kri 離子源用于離子束濺射鍍制 ge 納米薄膜的研究.
該研究采用的是 fjl560 iii 型真空多靶磁控與離子束聯(lián)合濺射設(shè)備的離子束濺射室內(nèi)制備樣品, 生長(zhǎng)室的本底真空度低于 4x10-4pa.
其系統(tǒng)工作示意圖如下：
該研究所的離子束濺射鍍膜組成系統(tǒng)主要由濺射室、離子源、濺射靶、基片臺(tái)等部分組成.
用于濺射的離子源采用伯東的 kri ---型射頻離子源 380, 其參數(shù)如下:
伯東 kri ---型射頻離子源 rficp 380 技術(shù)參數(shù)：
portant;"> 射頻離子源型號(hào)
portant;"> rficp 380
portant;"> discharge 陽(yáng)極
portant;"> 射頻 rficp
portant;"> 離子束流
portant;"> >1500 ma
portant;"> 離子動(dòng)能
portant;"> 100-1200 v
portant;"> 柵極直徑
portant;"> 30 cm φ
portant;"> 離子束
portant;"> ---
portant;"> 流量
portant;"> 15-50 sccm
portant;"> 通氣
portant;"> ar, kr, xe, o2, n2, h2, 其他
portant;"> 典型壓力
portant;"> < 0.5m torr
portant;"> 長(zhǎng)度
portant;"> 39 cm
portant;"> 直徑
portant;"> 59 cm
portant;"> 中和器
portant;"> lfn 2000
理由：
---型濺射離子源一方面可以增加束流密度, 提高濺射率; 另一方面減小離子束的散射面積, 減少散射的離子濺射在靶材以外的地方引起污染
生長(zhǎng)室的本底真空度低于 4x10-4pa, 經(jīng)采用伯東泵組 hicube 80 pro, 其技術(shù)參數(shù)如下：
分子泵組 hicube 80 pro 技術(shù)參數(shù):
portant;"> 進(jìn)氣法蘭
portant;"> 氮?dú)獬樗?br>
n2, l/s
portant;"> ---真空 hpa
portant;"> 前級(jí)泵
型號(hào)
portant;"> 前級(jí)泵抽速
m3/h
portant;"> 前級(jí)真空
安全閥
portant;"> dn 40 iso-kf
portant;"> 35
portant;"> < 1x10-7
portant;"> pascal 2021
portant;"> 18
portant;"> avc 025 ma
運(yùn)行結(jié)果：
得到了尺寸較均勻的 ge 島, 島的數(shù)量也很多.
伯東是德國(guó) pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計(jì), kri 考夫曼離子源, 美國(guó)hva 真空閥門(mén), 美國(guó) intest 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 美國(guó) ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 ns 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知---的---.
若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)信息或討論, 請(qǐng)參考以下聯(lián)絡(luò)方式:
上海伯東: 羅先生 臺(tái)灣伯東: 王女士
t: +86-21-5046-1322 t: +886-3-567-9508 ext 161
f: +86-21-5046-1490 f: +886-3-567-0049
m: +86 152-0195-1076 m: +886-939-653-958
ec@hakuto-vacuum.cn ec@hakuto.com.tw
伯東---, 翻拷必究！
聯(lián)系時(shí)請(qǐng)說(shuō)明是在云商網(wǎng)上看到的此信息，謝謝！
聯(lián)系電話：021-50463511，13918837267，歡迎您的來(lái)電咨詢(xún)！
本頁(yè)網(wǎng)址：
http://m.hkjzdrp.cn/g41578723/
推薦關(guān)鍵詞：
渦輪分子泵,
旋片真空泵,
氦質(zhì)譜檢漏儀,
氦質(zhì)譜分析儀,
真空計(jì)
登錄后臺(tái)
