適用設備：適用于北方華創、中科科儀、沈陽科儀、中電科、微電子所、南光機器廠、金盛微納、泰科諾、Kurt J.Lesker 愛發科、丹頓真空等各種單靶濺射系統，多靶濺射系統，離子濺射系統等磁控濺射設備。 應用領域：生產及科研方面應用，光學，微納加工，器件等行業

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