真空電鍍生產的滾鍍過程中需注意的事項及時調整主鹽濃度
滾鍍溶液中主鹽消耗較快，這主要是陽極面積常常不足，工件出槽時損耗較多等原因引起的。主鹽含量過低時會引起電流效率下降，鍍層難以鍍厚，為此需根據化驗分析數據及時予以調整。
滾鍍件預處理難度大
滾鍍件只能在籃筐里預處理，難免有重疊，uv真空電鍍加工廠商，故難以除盡污物。因而滾鍍溶液易受污染，由于滾鍍溶液對雜質較敏感，故溶液的凈化處理工作量較大，往往容易因此而耽誤生產。
滾鍍溶液的ph值變化大
ph值的變化尤其在滾鍍鎳時更為明顯。這是因為滾鍍鎳過程中局部部位析氫激烈。為維護生產，ph值需要勤調。
uv真空電鍍1.水處理設備大工作噪聲應不大于80db(a)。
2鍍層應具有規定的各項指標，如光亮度、硬度、導電性等。?
3.相對濕度(rh)應不大于95%。
4.鍍層應結晶細致、平整、厚度均勻。
5.電鍍時間及電鍍過程的溫度，決定鍍層厚度的大小。
6.鍍層應具有規定的厚度和盡可能少的孔隙。uv真空電鍍
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