微納光刻加工廠——廣東省科學院半導體研究所是廣東省科學院下屬骨干研究院所之一，主要-半導體產業發展的應用技術研究，-重大技術應用的基礎研究，立足于廣東省經濟社會發展的實際需要，從事電子信息、半導體領域應用基礎性、關鍵共性技術研究，以及行業應用技術開發。
光刻膠是微電子技術中微細圖形加工的關鍵材料之一。
普通的光刻膠在成像過程中，由于存在一定的衍射、反射和散射，降低了光刻膠圖形的對比度，從而降低了圖形的分辨率。隨著-加工特征尺寸的縮小，入射光的反射和散射對提高圖形分辨率的影響也越來越大。為了提高-系統分辨率的性能，人們正在研究在-光刻膠的表面覆蓋抗反射涂層的新型光刻膠技術。該技術的引入，可明顯減小光刻膠表面對入射光的反射和散射，從而-光刻膠的分辨率性能，但由此將引起工藝復雜性和光刻成本的增加。伴隨著新一代-技術ngl的研究與發展，為了-的滿足其所能實現光刻分辨率的同時，光刻膠也相應發展。--技術對光刻膠的性能要求也越來越高。
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掩模版：一塊在內部刻著線路設計圖的玻璃板，貴的要數十萬美元。
掩膜臺：承載掩模版運動的設備，運動控制精度是nm級的。
物鏡：物鏡由20多塊鏡片組成，主要作用是把掩膜版上的電路圖按比例縮小，再被激光映射的硅片上，并且物鏡還要補償各種光學誤差。技術難度就在于物鏡的設計難度大，精度的要求高。
硅片：用硅晶制成的圓片。硅片有多種尺寸，尺寸越大，產率越高。題外話，由于硅片是圓的，所以需要在硅片上剪一個缺口來確認硅片的坐標系，根據缺口的形狀不同分為兩種，分別叫flat、notch。
內部封閉框架、減振器：將工作臺與外部環境隔離，保持水平，減少外界振動干擾，并維持穩定的溫度、壓力。
光刻機跟照相機差不多，它的底片，是涂滿光敏膠的硅片。電路圖案經光刻機，縮微投射到底片，玻璃光刻芯片代工，蝕刻掉一部分膠，露出硅面做化學處理。制造芯片，要重復幾十遍這個過程。
位于光刻機中心的鏡頭，玻璃光刻芯片定制，由20多塊鍋底大的鏡片串聯組成。鏡片得高純度透光材料+高拋光。smee光刻機使用的鏡片，得數萬美元一塊。
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光刻其實就是一個圖形化轉印的過程。
光聚合型光刻膠采用烯類單體，玻璃光刻芯片服務，在光作用下生成自由基，進一步引發單體聚合，較后生成聚合物；光分解型光刻膠，采用含有-醌類化合物(dqn)材料作為感光劑，其經光照后，發生光分解反應，可以制成正性光刻膠；光交聯型光刻膠采用-月桂酸酯等作為光敏材料，在光的作用下，重慶玻璃光刻芯片，形成一種不溶性的網狀結構，而起到抗蝕作用，可以制成負性光刻膠。
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