等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備與技術(shù)(離子滲氮，氮碳共滲) 等離子體化學(xué)氣相沉積是一種新型的脈沖直流等離子體輔助沉積硬質(zhì)鍍膜新技術(shù)。在一定壓力、溫度的真空爐內(nèi)，加入適當(dāng)比例的不同工作氣體，在脈沖電壓的作用下，通過輝光放電產(chǎn)生均勻等離子體。
真空電鍍?cè)O(shè)備適用于要求提高表面耐磨損、耐腐蝕、抗高溫氧化、的零部件和工模具。---材料主要包括：高速鋼、冷熱鋼、冷熱模具鋼、結(jié)構(gòu)鋼、不銹鋼、鈦合金、硬質(zhì)合金等。
真空鍍膜技術(shù)主要有真空蒸發(fā)鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學(xué)氣相沉積等多種方法。除化學(xué)氣相沉積法外，大亞灣真空電鍍，其他幾種方法均具有以下的共同特點(diǎn)：
(1)各種鍍膜技術(shù)都需要一個(gè)特定的真空環(huán)境，真空電鍍加工，以---制膜材料在加熱蒸發(fā)或?yàn)R射過程中所形成蒸氣分子的運(yùn)動(dòng)，不致受到---中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾，并消除---中雜質(zhì)的---影響。
(2)各種鍍膜技術(shù)都需要有一個(gè)蒸發(fā)源或靶子，以便把蒸發(fā)制膜的材料轉(zhuǎn)化成氣體。由于源或靶的不斷改進(jìn)，---擴(kuò)大了制膜材料的選用范圍，無論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機(jī)物質(zhì)，都可以蒸鍍各種金屬膜和介質(zhì)膜，真空電鍍廠家，而且還可以同時(shí)蒸鍍不同材料而得到多層膜。
(3)蒸發(fā)或?yàn)R射出來的制膜材料，在與待鍍的工件生成薄膜的過程中，對(duì)其膜厚可進(jìn)行比較的測(cè)量和控制，從而---膜厚的均勻性。
(4)每種薄膜都可以通過微調(diào)閥地控制鍍膜室中殘余氣體的成分和分?jǐn)?shù)，從而防止蒸鍍材料的氧化，五金真空電鍍，把氧的分?jǐn)?shù)降低到的程度，還可以充入惰性氣體等，這對(duì)于濕式鍍膜而言是無法實(shí)現(xiàn)的。
(5)由于鍍膜設(shè)備的不斷改進(jìn)，鍍膜過程可以實(shí)現(xiàn)連續(xù)化，從而---地提高產(chǎn)品的產(chǎn)量，而且在生產(chǎn)過程中對(duì)環(huán)境無污染。
(6)由于在真空條件下制膜，所以薄膜的純度高、密實(shí)性好、表面光亮不需要再加工，這就使得薄膜的力學(xué)性能和化學(xué)性能比電鍍膜和化學(xué)膜好。
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