目前，我國電子工業部把工業超純水水質技術分為五個行業標準(gb/t 11446)，分別為18mω.cm、15mω.cm、10mω.cm、0.5mω.cm，純水機，以區分不同水質。制備超純水的辦法一般選用反滲透設備，去離子或電去離子(edi)等工藝。在水質要求達10mω.cm以上，一般選用不同的工藝進行組合調配的辦法來制取，例如選用反滲透加去離子，反滲透加edi等。
為滿足用戶需要，達到符合標準的水質，盡可能地減少各級的污染，延長設備的使用壽命、降低操作人員的維護工作量;在工藝設計上，取達自來水標準的水為源水，經過預處理系統、反滲透系統、離子交換混床(edi電除鹽系統)等系統，根據不同用戶對純水的要求不一，以排列組合的方式，生產出一套套量身訂制的純水處理設備。
制---水的輸送
1純化水和制---水宜采用易拆卸清洗、消毒的不銹鋼泵輸送。在需用壓縮空氣或氮氣壓送的純化水和水的場合，壓縮空氣和氮氣須凈化處理。
2純化水宜采用循環管路輸送。管路設計應簡潔，應避免盲管和死角。管路應采用不銹鋼管或經驗證---、耐腐蝕、不滲出污染離子的其他管材。閥門宜采用無死角的衛生級閥門，輸送純化水應標明流向。
3輸送純化水和水的管道、輸送泵應定期清洗、消毒滅菌，驗證合格后方可投入使用。
純水設備應用產品：電解電容生產制造鋁鉑及工作中件的清理。整流管生產制造.整流管負極涂覆---物配液。顯象管和陰極射線生產制造.調料用純水。黑與白顯象管顯示屏生產制造.玻殼清理.沉積.潮濕.洗膜.管頸清理用純水。液晶顯示屏的生產制造.屏面需用純水清理和用純水配液。晶體三極管生產制造中關鍵用于清理單晶硅片，另有小量用于配置。集成電路芯片制造中高純水清理單晶硅片。半導體器件.元器件.印刷線路板和集成電路芯片。lcd液晶顯示器.pdp低溫等離子顯示器。高顯象管.熒光粉生產制造。晶元原材料生產制造.生產加工.清理。超純原材料和超純化學---.超純化工原料。試驗室和小試生產車間。車輛.家用電器.裝飾建材產品表層噴涂等其他標準的表層處理用純水。光學產品.別的新科技產品。電鍍工藝(電鍍金.鍍金.塑料電鍍.不銹鋼.熱鍍鋅等)用水。玻璃鍍膜用高純水。超聲波頻率清理用純水，電泳原理用純水。
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