實驗室用小型蒸發鍍膜機
用作真空蒸發鍍的裝置稱為蒸發鍍膜機。蒸發鍍膜機主要由真空室、排氣系統、蒸發系統和電氣設備四部分組成。
真空室是放置鍍件、進行鍍膜的場所，塑料納米鍍膜設備，直徑一般為400~700mm，高400~800mm，用不銹鋼或碳鋼制作，有水冷卻裝置。
東莞拉奇納米科技有限公司是一家從事納米鍍膜代工與納米鍍膜設備制造銷售的公司，為擴大服務體制于1999年開始延伸服務區域，并于2006年正式成立大中華區“東莞拉奇納米科技有限公司”。
鍍膜設備就是在高真空狀態下通過高溫將金屬鋁熔化蒸發，使鋁的蒸汽沉淀堆積到塑料薄膜表面上，從而使塑料薄膜表---有金屬光澤的設備。真空鍍膜技術作為一種產生特定膜層的技術，在現實生產生活中有著廣泛的應用。
鍍膜設備的鍍膜方式：離子鍍，橡膠納米鍍膜設備，蒸發鍍，濺射鍍
(1)鍍膜設備的特點： 成膜速度快0.1- 50um/min，設備比較簡單，操作容易;制得薄膜純度高;薄膜生長機理較簡單。
(2) 缺點：薄膜附著力較小，電子納米鍍膜設備，結晶不夠完善，工藝重復性不夠好。
真空納米鍍膜機設備的主要用途
(1)各種功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如，低溫沉積氮化硅減反射膜，納米鍍膜設備，以提高太陽能電池的光電轉換效率。
(2)裝飾領域的應用，如各種全反射膜及半透明膜等，如手機外殼，鼠標等。
(3) 在微電子領域作為一種非熱式鍍膜技術，主要應用在化學氣相沉積(cvd)或金屬有機
(4)化學氣相沉積(mocvd)生長困難及不適用的材料薄膜沉積，而且可以獲得大面積非常均勻的薄膜。
磁控濺射除上述已被大量應用的領域，還在高溫超導薄膜、鐵電體薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜發光材料、太陽能電池、記憶合金薄膜研究方面發揮重要作用。
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