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荷蘭的asml公司壟斷了高i端光刻機。但其透鏡來自德國的蔡司，自己也做不了。光源是美國的cymer.所以說它也不是完全技術獨立。主要是技術難度太大。
其次是資金上的困難：
光刻機由于技術難度大，研發(fā)資金投入---，以至于佳能和索i尼都虧損---，已經(jīng)停止研發(fā)，退出未來技術的競爭。
荷蘭的asml，為了籌集i資金，大面積蘇打鉻板，同時也是進行上下游利益---，蘇州鉻板，研發(fā)風險共擔，蘇打鉻板，邀請英特爾、三星和臺積電出資，做自己的大股東。asml實際上是美、日、韓、德等共同投資的項目，資金充裕。
中國也在此方面有長期投入，但投入水平和不能和多國合作同日而語。中國有相對寬裕的研發(fā)資金，也才是近7、8年的事情，而光刻機的研發(fā)，10年都顯然不夠。
因為掩膜版是設計構(gòu)思和生產(chǎn)制造的關鍵對接，圓晶生產(chǎn)商常有自身的技術加工廠來生產(chǎn)制造本身必須的掩膜版，因而優(yōu)i秀的掩膜版技術性都是把握在具備優(yōu)i秀圓晶生產(chǎn)制造焊錫的晶圓廠手上。但近些年掩膜版業(yè)務外包的發(fā)展趨勢十分的---，非常是針對某些60nm及90nm左右焊錫的中低端商品。業(yè)務外包的掩膜版市場占有率從2003年里的30%升高至2014年的53%。
光呆板業(yè)界別稱光掩模板、掩膜版，光罩，英文名字mask或photomask，材料：石英玻璃、金屬鉻和光感應膠，該商品是由石英玻璃或是碳酸鈉夾層玻璃做為襯底，石英鉻板，在其上邊鍍上一層層金屬鉻和光感應膠。在塑料薄膜、塑膠或夾層玻璃化學反應原材料上制做各種各樣作用圖型并精i明確位，便于用以光致抗蝕劑鍍層可選擇性曝i光的這種構(gòu)造，稱之為光刻掩模板。
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