1化學氣相沉積cvd反應溫度一般在900~1200℃，中溫cvd例如mocvd金屬有機化合物化學氣相沉積，反應溫度在500~800℃。若通過氣相反應的能量，還可把反應溫度降低。
“輔助”cvd的工藝較多，手機鍍膜設備多少錢，主要有：
電子輔助cvdeacvd也稱為電子束輔助cvd，電子增強cvd，或電子束-cvd，涂層的形成在電子作用下得到改進。
激光輔助cvdlacvd)，也稱為激光cvd或光子輔助cvd，涂層的形成在激光輻照作用下得到改進。
熱絲cvd，也稱為熱cvd，工具鍍膜設備，一根熱絲放在被鍍物件附近進行沉積。
金屬有機化合物cvdmocvd，是在一種有機金屬化合物氣氛這種氣氛在室溫時是穩定的，但在高溫下分解中進行沉積。
離子鍍，是在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發物質離子化，眼鏡鍍膜設備，在氣體離子或蒸發物質離子轟擊作用下，把蒸發物質或其反應物蒸鍍在工件上。離子鍍把輝光放電、等離子技術與真空蒸鍍技術結合在一起，不僅明顯地提高了鍍層的各種性能，而且，大大擴充了鍍膜技術的應用范圍。
離子鍍除兼有真空濺射的優點外，還具有膜層的附著力強、繞射性好、可鍍材料廣泛等優點。例如，利用離子鍍技術可以在金屬、塑料、陶瓷、玻璃、紙張等非金屬材料上，涂覆具有不同性能的單一鍍層、合金鍍層、化合物鍍層及各種復合鍍層，而且沉積速度快可達755m/min，鍍前清洗工序簡單，對環境無污染，鍍膜設備，因此，近年來在-得到了迅速的發展。
鍍膜設備pcvd技術具有沉積溫度低，沉積速率快，繞鍍性好，薄膜與基體結合強度好，設備---維護簡單等優點，用pcvd法調節工藝參數方便靈活，輕易調整和控制薄膜厚度和成份組成結構，沉積出多層復合膜及多層梯度復合膜等膜，同時，pcvd法還拓展了新的低溫沉積領域，例如，用pcvd法可將tin的反應溫度由cvd法的1000℃降到200～500℃，用pcvd法制備納米陶瓷薄膜的特點是：產品的楊氏模量、抗壓強度和硬度都-，耐磨性好，化學性能穩定，性和腐蝕性好，有較高的高溫強度。
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