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普通真空鍍膜時,蒸發(fā)料粒子大約只以一個電子伏特的能量向工件表面蒸鍍,在工件表面與鍍層之間,形成的界面擴(kuò)散---通常僅為幾百個埃10000埃=1微米=0.0001厘米。而離子鍍時,蒸發(fā)料粒子電離后具有三千到五千電子伏特的動能。當(dāng)其高速轟擊工件時,不但沉積速度快,而且能夠穿透工件表面,形成一種注入基體很深的擴(kuò)散層,離子鍍的界面擴(kuò)散---可達(dá)四至五微米,也就是說比普通真空鍍膜的擴(kuò)散---要深幾十倍,甚百倍,因而彼此粘附得---牢。
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物理l氣相沉積法主要有真空蒸鍍、濺射和離子鍍。
真空蒸鍍:在真空中加熱使金屬、合金或化合物蒸發(fā),然后凝結(jié)在基體表面上的方法叫真空蒸鍍。
濺射:濺射是利用高速正離子轟擊某一靶材陰極,使靶材表面原子以一定能量逸出,后在工件表面沉積的過程。
離子鍍:離子鍍借助于一種惰性氣體的輝光放電使欲鍍金屬或合金蒸發(fā)離子化,并在這些荷能離子轟擊基體工件表面并同時沉積在其上形成鍍膜。
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鍍膜玻璃常見外觀缺陷
1。劃傷scr---hes:鍍膜玻璃表面各種線狀的劃痕?梢姵潭热Q于它們的長度、寬度、位置和分布。主要是由于鍍膜玻璃表面和其它物體摩擦造成的。
2。暗道dark stripe:從鍍膜玻璃的反射方向看,膜層表面亮度或反射色異于整體的條狀區(qū)域,可見程度取決于它們和周圍膜層的亮度差。