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普通真空鍍膜時，蒸發料粒子大約只以一個電子伏特的能量向工件表面蒸鍍，在工件表面與鍍層之間，形成的界面擴散---通常僅為幾百個埃10000埃=1微米=0.0001厘米。而離子鍍時，蒸發料粒子電離后具有三千到五千電子伏特的動能。當其高速轟擊工件時，不但沉積速度快，而且能夠穿透工件表面，形成一種注入基體很深的擴散層，離子鍍的界面擴散---可達四至五微米，也就是說比普通真空鍍膜的擴散---要深幾十倍，甚百倍，因而彼此粘附得---牢。
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物理l氣相沉積法主要有真空蒸鍍、濺射和離子鍍。
真空蒸鍍：在真空中加熱使金屬、合金或化合物蒸發，然后凝結在基體表面上的方法叫真空蒸鍍。
濺射：濺射是利用高速正離子轟擊某一靶材陰極，使靶材表面原子以一定能量逸出，后在工件表面沉積的過程。
離子鍍：離子鍍借助于一種惰性氣體的輝光放電使欲鍍金屬或合金蒸發離子化，并在這些荷能離子轟擊基體工件表面并同時沉積在其上形成鍍膜。
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鍍膜玻璃常見外觀缺陷
1。劃傷scr---hes：鍍膜玻璃表面各種線狀的劃痕。可見程度取決于它們的長度、寬度、位置和分布。主要是由于鍍膜玻璃表面和其它物體摩擦造成的。
2。暗道dark stripe：從鍍膜玻璃的反射方向看，膜層表面亮度或反射色異于整體的條狀區域，可見程度取決于它們和周圍膜層的亮度差。
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