公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！
在容柵電子光學(xué)微影技術(shù)性中，光罩表層的擋光圖樣會(huì)與基鋼板上的光阻層觸碰磨擦，非常容易促使擋光圖樣損耗促使光罩使用期減少。另一個(gè)，當(dāng)施膠光亮阻層的基鋼板表層并不是十分整平時(shí)，光罩與光阻層會(huì)造成不確定性的間隙與間距，而導(dǎo)致光源的光學(xué)散射與繞射，從而導(dǎo)致曝i光的規(guī)格偏差，而且導(dǎo)致光阻層淺部一部分的側(cè)面曝i光范疇擴(kuò)張，因此沒法制做出深?yuàn)W長(zhǎng)寬比的光阻構(gòu)造。
公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！
一種具有保護(hù)環(huán)的光刻板，包括光刻板本體和設(shè)置在光刻板本體外圈的保護(hù)環(huán)，所述保護(hù)環(huán)緊密圍在光刻板本體的外部邊緣處并將內(nèi)部的光刻板本體圍起，所述保護(hù)環(huán)上具有圓型開孔、直角型開孔與直線型開孔，所述直角型開孔設(shè)置在光刻板本體的轉(zhuǎn)角處，所述直線型開孔設(shè)置在光刻板本體的水平邊緣與豎直邊緣，所述圓型開孔設(shè)置在直角型開孔與直線型開孔的連接處。
光刻掩膜版又稱光罩，英文為mask reticle，簡(jiǎn)稱掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過---過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。
1 繪制生成設(shè)備可以識(shí)別的掩膜版版圖文件gds格式2 使用無(wú)掩模光刻機(jī)讀取版圖文件，對(duì)帶膠的空白掩膜版進(jìn)行非接觸式------波長(zhǎng)405nm，照射掩膜版上所需圖形區(qū)域，玻璃板，使該區(qū)域的光刻膠通常為正膠發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)3 經(jīng)過顯影、定---，---區(qū)域的光刻膠溶解脫落，暴露出下面的鉻層4 使用鉻刻蝕液進(jìn)行濕法刻蝕，將暴露出的鉻層刻蝕掉形成透光區(qū)域，而受光刻膠保護(hù)的鉻層不會(huì)被刻蝕，形成不透光區(qū)域。這樣便在掩膜版上形成透光率不同的平面圖形結(jié)構(gòu)。5 在有-的情況下，使用濕法或干法方式去除掩膜版上的光刻膠層，并對(duì)掩膜版進(jìn)行清洗。
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