刻蝕設備刻蝕是用化學或物理方法有選擇地從硅片表面去除不需要材料的過程。通過高速旋轉的多級渦輪轉子葉片和靜止葉片的組合進行抽氣的，在分子流區域內對被抽氣體產生-的壓縮比，從而獲得所需要的真空性能。刻蝕的基本目標是在涂膠的硅片上正確地復付制掩膜圖形。現代化的干法刻蝕設備包括復雜的機械、電氣和真空系統，同時配有自動化的刻蝕終點檢測和控制裝置。刻蝕應用工況復雜，清潔性差，充入特種氣體種類繁多，因此需要特殊處理的干泵和磁懸浮分子泵。 varian渦輪分子泵電源
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廣州潽拓——出售美國安捷倫 agilent ds 402 旋片泵
概述：
美國安捷倫 agilent ds 402 旋片泵憑借非常簡單而-的設計，這些久經實際應用驗證的旋片泵可提供優異的真空性能。安捷倫產品的和制造標準-了ds 旋片泵對輕質氣體具有穩定的高抽速，同時還具有低噪聲，返油量少以及使用-的特點
詳細介紹：
美國安捷倫 agilent ds 402
旋片泵憑借非常簡單而-的設計，這些久經實際應用驗證的旋片泵可提供優異的真空性能。一般建議客戶使用3-6個月需要更換，污染比較-行業，更換時間會縮短。安捷倫產品的和制造標準-了ds旋片泵對輕質氣體具有穩定的高抽速，同時還具有低噪聲，返油量少以及使用-的特點。該泵的雙級設計使其可以在較低工作溫度下使用，并da限度減少低壓強造成油蒸汽的回流現象，同時在10-2 mbar 的低壓范圍內具有-的抽氣速率和氣鎮效果。ds 旋片泵符合歐盟 (ce) 和-- (rohs) 要求，并且所有泵均通過 ul和加拿大標準協會 (csa) 。
性能特征：
工作壓力低至10-3 mbar
工作溫度低
低壓下返流xiao在10-2 mbar
低壓范圍內具有-的抽氣速率和氣鎮效果。
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