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1、-濃度：通常采用15%～20%。濃度升高，膜的溶解速度加大，膜的生長速度降低，膜的孔隙率高，吸附力強，富有彈性，染色性好易于染深色，但硬度，耐磨性略差；而降低-濃度，則氧化膜生長速度加快，膜的孔隙少，硬度高，耐磨性好。所以，硬質氧化用于防護，裝飾及純裝飾加工時，多使用允許濃度的上限，即20%濃度的-做電解液。
2、電流密度：在一定限度內，電流密度升高，膜生長速度升高，硬質氧化時間縮短，生成膜的孔隙多，硬質陽極氧化，易于著色，且硬度和耐磨性升高；電流密度過高，則會因焦耳熱的影響，使零件表面過熱和局部溶液溫度升高，膜的溶解速度升高，且有燒毀零件的可能；電流密度過低，則膜生長速度緩慢，但生成的膜較致密，硬度和耐磨性降低。
3、氧化時間：氧化時間的選擇，取決于電解液濃度，溫度，陽極電流密度和所需要的膜厚。相同條件下，當電流密度恒定時，膜的生長速度與氧化時間成正比；但當膜生長到一定厚度時，由于膜電阻升高，影響導電能力，而且由于溫升，膜的溶解速度增大，所以膜的生長速度會逐漸降低，到-不再增加。
4、攪拌和移動：可促使電解液對流，強化冷卻效果，-溶液溫度的均勻性，不會造成因金屬局部升溫而導致氧化膜的下降。
5、鋁合金成分：一般來說，鋁金屬中的其它元素使膜的下降，且得到的氧化膜沒有純鋁上得到的厚，硬度也低，不同成分的鋁合金，陽極氧化，在進行硬質氧化處理時要注意不能同槽進行。
陽極氧化電解溶液的選擇。陽極氧化膜生長的一個先決條件是，電解液對氧化膜應有溶解作用。但這并非說在所有存在溶解作用的電解液中陽極氧化都能生成氧化膜或生成的氧化膜性質相同。陽極氧化膜結構、性質。陽極氧化膜由兩層組成，多孔的厚的外層是在具有介電性質的致密的內層上上成長起來的，后者稱為阻擋層。用電子顯微鏡觀察研究，膜層的縱橫面幾乎全都呈現與金屬表面垂直的管狀孔，它們貫穿膜外層直至氧化膜與金屬界面的阻擋層。以各孔隙為主軸周圍是致密的氧化鋁構成一個蜂窩六棱體，稱為晶胞，整個膜層是又-個這樣的晶胞組成。阻擋層是又無水的氧化鋁所組成，薄而致密，什么是陽極氧化，具有高的硬度和阻止電流通過的作用。
鋁合金-硬質氧化膜的優劣及其抗蝕防護性能的好壞主要取決于鋁合金成分、膜層厚度、硬質氧化處理工藝條件f如溫度、電流密度、使用水質及硬質氧化后的填充封閉工藝等等。因此，要避免類似本文出現的硬質氧化膜失效現象，就必須從細節把關，嚴格規范生產操作程序，杜絕鋁合金硬質氧化工序后產生的酸性液體殘留，以防止陽極化膜層受到腐蝕破壞。
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