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直徑100um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，手術室凈化工程中標，對產品將有污染，手術室凈化工程造價，---是怕鈉的半導體車間，這種車間不宜超過25度。
濕度過高產生的問題更多。相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結露，如果發生在精密裝置或電路中，手術室凈化工程圖，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。凈化工程要控制溫濕度具體有什么措施？
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