磁控濺射電源
從輸出波形看，伴隨著磁控濺射技術(shù)本身的發(fā)展，納米噴鍍廠家，經(jīng)歷了直流、單極性脈沖、對(duì)稱(chēng)雙極性脈沖中頻磁控濺射電源和雙極性脈沖非對(duì)稱(chēng)中頻磁控濺射電源幾種方式。目前，新的磁控濺射電源基本上都采用高頻逆變開(kāi)關(guān)電源技術(shù)制造，中頻磁控濺射電源已成為新的磁控濺射設(shè)備的電源。為了準(zhǔn)確控制膜層厚度，磁控濺射電源必須穩(wěn)定工作，并具有較好的恒定特性。目前，主要采用恒流方式，也有采用恒功率方式的，采用恒壓方式。另外，磁控濺射鍍膜技術(shù)具有的一個(gè)-優(yōu)點(diǎn)是膜層致密、光潔度較好。要實(shí)現(xiàn)該優(yōu)點(diǎn)，納米噴鍍加工，必須嚴(yán)格-磁控濺射過(guò)程中靶表面的打火次數(shù)和每次打火的能量，納米噴鍍?cè)O(shè)備，盡量減少打火瞬間造成的宏觀靶材粒子數(shù)量，它們會(huì)降低膜層的致密性和光潔度，納米噴鍍，-時(shí)會(huì)造成掉膜。
片式電阻端頭磁控濺射鍍膜機(jī)
本設(shè)備是片式電阻端頭鍍膜的設(shè)備，也適用于其它細(xì)小，顆粒狀，無(wú)法懸掛的片式元件鍍膜.
片式電阻端頭磁控濺射鍍膜機(jī)其特點(diǎn)為:
1.雙磁控濺射靶鍍膜速率高，膜層致密。
2.的夾具結(jié)構(gòu)，可實(shí)現(xiàn)大批量電陰端頭鍍膜。
3.鍍膜成品率達(dá)99%以上。
4.整機(jī)采用不銹鋼制造，外型美觀。
5.控制操作介面可實(shí)現(xiàn)各工藝過(guò)程參數(shù)設(shè)置及故障顯示、開(kāi)-機(jī)，鍍膜過(guò)程全自動(dòng)運(yùn)行。
鼎益科技
燈具真空鍍膜機(jī)
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