由于塑膠電鍍生產(chǎn)有著上面所講到的這些特點，電鍍生產(chǎn)的管理與其他生產(chǎn)過程相比，存在一定的難度。而要減少電鍍生產(chǎn)管理的難度，真空電鍍，則至少要避免以下三個方面的忌諱。
一忌外行---內(nèi)行
前面已經(jīng)講到，塑膠電鍍加工是一個涉及多學(xué)科和多的過程。因此要求管理者，-是主管人員，一定要是內(nèi)行。即使不是電鍍的，至少也是有較豐富電鍍經(jīng)驗的電鍍從業(yè)人員。這對于-產(chǎn)品、降低生產(chǎn)成本和提高安全系數(shù)是非常重要的。
簡述真空鍍膜加工與光學(xué)鍍膜加工之間的區(qū)別
真空鍍膜加工主要用于產(chǎn)品表面裝飾鍍，改變產(chǎn)品外觀，透明真空電鍍，光學(xué)鍍膜加工目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。 兩者之間概念上的區(qū)別：真空鍍膜加工主要是指高真空條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件表面形成薄膜。而光學(xué)鍍膜加工是指光學(xué)零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))薄膜的工藝過程。
原理的區(qū)別：真空鍍膜加工是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個重要方面，pet真空電鍍，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)。光學(xué)鍍膜是借助真空濺射的方式鍍制薄膜，控制基板的入射光束反射率與透過率。
真空電鍍廠介紹影響電鍍的因素
真空電鍍廠介紹，影響電鍍的因素很多﹐包括鍍液的各種成分以及各種電鍍工藝參數(shù)。利用電解池原理在機械制品上沉積出附著-的、但性能和基體材料不同的金屬覆層的技術(shù)。下面就其中某些主要因素進行討論。=
ph值的影響
鍍液中的ph值可以影響氫的放電電位﹐堿性夾雜物的沉淀﹐還可以影響絡(luò)合物或水化物的組成以及添加劑的吸附程度。通過加入緩沖劑可以將ph值穩(wěn)定在一定范圍。
添加劑的影響
真空電鍍廠闡述，鍍液中的光亮劑﹐整平劑﹐潤濕劑等添加劑能明顯-鍍層組織。
電流密度的影響
任何電鍍都必須有一個能產(chǎn)生正常鍍層的電流密度范圍。當(dāng)電流密度過低時﹐陰極極化作用較小﹐鍍層桔晶粗大﹐甚至沒有鍍層。隨著電流密度的增加﹐陰極極化作用隨著增加﹐鍍層晶粒越來越細。
攪拌的影響
真空電鍍廠概述，攪拌可降低陰極極化﹐使晶粒變粗﹐但可提高電流密度﹐從而提高生產(chǎn)率。此外攪拌還可增強整平劑的效果。
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