隨著現代科學和技術的發展，薄膜科學已成為近年來迅速發展的學科領域之一，是凝聚態物理學和材料科學的一個重要研究領域。功能薄膜是薄膜研究的主要方面，它不僅具有豐富的物理內涵，而且在微電子、光電子、超導材料等領域具有十分廣泛的應用。長期以來，人們發明了多種制膜技術和方法：真空蒸發沉積、離子束濺射、磁控濺射沉積、分子束外延、金屬有機化學氣相沉積、溶膠- 凝膠法等。上述方法各有特點，并在一些領域得到應用。但由于其各有局限性，仍然不能滿足薄膜研究的發展及多種薄膜制備的需要。隨著激光技術和設備的發展，---是高功率脈沖激光技術的發展，脈沖激光沉積pld技術的特點逐漸被人們認識和接受
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1. 易獲得期望化學計量比的多組分薄膜，即具有---的保成分性；
2. 沉積速率高，試驗周期短，襯底溫度要求低，激光脈沖沉積裝置多少錢，制備的薄膜均勻；
3. 工藝參數任意調節，對靶材的種類沒有---；
4. 發展潛力---，具有---的兼容性；
5. 便于清潔處理，可以制備多種薄膜材料。
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1.靶: 數量6個，大小1-2英寸，被激光照射時可自動旋轉，靶的選擇可通過步進電機控制;
2.基板:采用適合于氧氣環境鉑金加熱片，大小2英寸，加熱溫度可達1200攝氏度，溫度差<3%，加熱時基板可旋轉，工作環境的壓力可達300mtorr;
3.基板加熱電源，高到1200度;
4.真空成膜室腔體:不銹鋼sus304材質，內表面電解拋光，本底真空度<5e-8 pa;
5.樣品搬運室:不銹鋼sus304材質，內表面電解拋光，本底真空度<5e-5 pa;
6.排氣系統:分子泵和干式機械泵;
7.閥門: 采用真空擋板閥;
8.真空檢測:真空計;
9.氣路兩套: 采用氣體流量計控制;
10.薄膜生長監控系統: 采用掃描型差分rheed;
11.監控系統:基板溫度的監控和設定，基板和靶的旋轉，靶的更換等;
12.各種電流導入及測溫端子;
13.其它各種構造:各種真空位移臺，激光脈沖沉積裝置，磁力傳輸桿，真空法蘭，真空密封墊圈，真空用波紋管等;
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