沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司——生產(chǎn)、銷售磁控濺射產(chǎn)品，單靶磁控濺射儀價(jià)格，我們公司堅(jiān)持用戶為---，想用戶之所想，急用戶之所急，以誠為本，講求信譽(yù)，以產(chǎn)品求發(fā)展，以求生存，我們熱誠地歡迎各位同仁合作共創(chuàng)。
由于被濺射原子是與具有數(shù)十電子伏特能量的正離子交換動(dòng)能后飛濺出來的，因而濺射出來的原子能量高，單靶磁控濺射儀公司，有利于提高沉積時(shí)原子的擴(kuò)散能力，提高沉積組織的致密程度，使制出的薄膜與基片具有強(qiáng)的附著力。
濺射時(shí)，氣體被電離之后，氣體離子在電場作用下飛向接陰極的靶材，電子則飛向接地的壁腔和基片。這樣在低電壓和低氣壓下，產(chǎn)生的離子數(shù)目少，靶材濺射效率低；而在高電壓和高氣壓下，盡管可以產(chǎn)生較多的離子，但飛向基片的電子攜帶的能量高，容易使基片-甚至發(fā)生二次濺射，影響制膜。另外，靶材原子在飛向基片的過程中與氣體分子的碰撞幾率也大為增加，因而被散射到整個(gè)腔體，既會(huì)造成靶材浪費(fèi)，又會(huì)在制備多層膜時(shí)造成各層的污染。
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設(shè)備簡介
主要特點(diǎn)是設(shè)備體積小，結(jié)構(gòu)簡單緊湊易于操作，對(duì)實(shí)驗(yàn)室供電要求低；該系列設(shè)備主要部件采用進(jìn)口或者國內(nèi)優(yōu)的配置，從而提高設(shè)備的穩(wěn)定性；另外自主開發(fā)的智能操作系統(tǒng)在設(shè)備的運(yùn)行重復(fù)性及安全性方面得到---地保障。 目前該系列有基本型、---型、---型、尊享型4種不同配置可供選擇，可以根據(jù)客戶的不同需求進(jìn)行配置，比較靈活；標(biāo)配4只φ2英寸永磁靶，4臺(tái)500w直流濺射電源，主要用來開發(fā)納米級(jí)單層及多層的金屬導(dǎo)電膜、半導(dǎo)體膜以及絕緣膜等。
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1. 濺射室---真空度：≤6.6×10-6 pa
2. 系統(tǒng)真空檢漏漏率：≤5.0×10-7pa.l/s
3. 系統(tǒng)從---開始抽氣：濺射室30分鐘可達(dá)到6.6×10-4 pa；
4. 系統(tǒng)停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后真空度：≤5pa
5. 濺射真空室1套，立式上開蓋結(jié)構(gòu)，尺寸不小于ф300mm×300mm，全不銹鋼結(jié)構(gòu)，弧焊接，表面進(jìn)行電化學(xué)拋光，內(nèi)含防污內(nèi)襯，可內(nèi)烘烤到100～150℃，接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封，腔體內(nèi)有照明系統(tǒng)
6. 磁控濺射系統(tǒng) 3套， 提供3塊測試靶材。鍍膜不均勻度≤5%
7. 旋轉(zhuǎn)基片臺(tái) 1套，樣品臺(tái)可放置不小于100mm樣品1片，具有連續(xù)旋轉(zhuǎn)功能，旋轉(zhuǎn)0—30轉(zhuǎn)/分連續(xù)可調(diào)。基片加熱溫度：室溫—500°c連續(xù)可調(diào)，由熱電偶閉環(huán)反饋控制，加熱電源配備控溫表，控溫方式為pid自動(dòng)控溫及數(shù)字顯示
8. 觀察窗口及法蘭接口部件 1套
9. 工作氣路1套，包含：100sccm、20sccm流量控制器、cf16截止閥、管路、接頭等共2路； dn16充氣閥、管路、接頭等2路；
10. 抽氣機(jī)組及閥門、管道 1套，包含1臺(tái)進(jìn)口復(fù)合分子泵及變頻控制電源680l/s ，德國普發(fā)hipace700分子泵；1臺(tái)機(jī)械泵4l/s ，1臺(tái)dn40氣動(dòng)截止閥，單靶磁控濺射儀多少錢，機(jī)械泵與真空室之間的旁抽管路1套，cc150氣動(dòng)閘板閥1臺(tái)用于復(fù)合分子泵與真空室隔離，節(jié)流閥1臺(tái)，dn40旁抽氣閥1臺(tái)，壓差式充氣閥1臺(tái)；管道采用不銹鋼三通及波紋管，
11. 安裝機(jī)臺(tái)架組件 1套，由方鋼型材焊接成，快卸圍板表面噴塑處理，機(jī)臺(tái)表面用不銹鋼蒙皮裝飾，單靶磁控濺射儀，四只腳輪，可固定，可移動(dòng)。
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