成都超邁光電科技有限公司為您提供箱式磁控濺射鍍膜機。該設備用于納米級單層或多層膜、類金剛石薄膜、金屬膜、導電膜、半導體膜和非導電膜等功能薄膜的制備，可實現共濺射，直流、射頻兼容，---適于科研院所和企業進行功能薄膜研發、教學和新產品開發，同時可在微米級粉末或顆粒上沉積薄膜進而達到表面改性的功能。是替代鐘罩式磁控濺射的理想選擇。
主體結構。全封閉框架結構，真空室φ500為前開門方式，機柜和主機為一體式機構。
真空度。≤5×10－5pa空載、經充分烘烤除氣并充干燥氮氣，漏率：優于1x10-7pa.l/s,壓升率優于---標準。
真空配置。高速直聯旋片泵一臺，抽速大于8l/s，配置尾氣處理裝置。分子泵一臺，抽速1200l/s。
真空測量。兩路電阻規，一路電離規；電阻規和電離規均采用防爆型金屬封結真空規。
工件架系統。7工位2英寸行星工件盤，6個在圓周上，1個放置在工件盤中心，可用于共濺射，中心工位設置加熱臺，采用pid控制可烘烤加熱到700℃。工件盤由減速電機驅動。
磁控濺射系統。配置3個φ50mm可折疊磁控靶可擴展至4靶機構，安裝真空室底部，向上濺射成膜；每只靶和基片件距離手動可調；靶內均通入冷卻水冷卻。
電源 。2套直流電源； 1套全固態射頻電源；；一套200w直流偏壓電源；
充氣系統。配置三路供氣，二路分別配置流量控制器，線性±0.5 % f.s，重復精度±0.2% f.s，0-5v輸出，在觸摸屏上設置流量。
電氣控制系統。采用功能化模塊設計，匹配西門子人機界面+西門子控制單元，濺射時間可以設定并---，能夠根據工藝需求自動濺射。
可選配置：在線膜厚監控系統；垂直濺射與共濺射兼容；基片烘烤溫度至800攝氏度，滿足部分材料的真空原位退火或氣氛保護退火的需要；蒸發鍍膜與磁控濺射兼容；干式無油潔凈真空系統；在線離子轟擊清洗；自動擋板和手動擋板；直流電源射頻電源的組合形式。
---說明：根據用戶不同的工況和工藝要求，公司愿與客戶聯合研發，共享---。
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